A vékony filmkészítés alapjai

Ez a cikk röviden bemutatja a félvezető bevonás releváns ismereteit, és az alapvető vékonyréteg -előkészítési módszerek között szerepel a hőkezelés és a porlasztás .

Egőzözés

A termikus párolgás egy érett és széles körben alkalmazott módszer a vékony fóliák előállítására . magas hőmérsékleten, amikor a film anyagát magasabb hőmérsékletre melegítik, a film anyagának atomjai vagy molekulái a film felületétől elpárolognak, és a szubsztrát felületéhez tartoznak, hogy a következő két}}}}}}}}}}}}}} -et függeljen. kategóriák .

0021-76356 Blade, HP frissítés, 6 in

(1) Rezisztencia -fűtési módszer

At a vacuum of 10-6 Torr or more, the material is heated to escape from the evaporation source, transform into a vapor phase, and then deposit into the matrix and its surroundings to form a thin film. This process is based on resistance heating, through a continuous supply of electricity to produce the Joule heating effect, high energy so that atoms or molecules gain a certain kinetic energy, forming a thin film A szubsztrát felületén .

(2) Az elektronnyaláb termikus párolgása

Az elektronnyaláb -elpárologtatási módszer elsősorban az elektronpisztoly -kibocsátást használja elektronok bocsátására a membrán felületére, és a membrán anyagot elektronok bombázzák, hogy belső energiát generáljanak, és a membrán részecskéi a belső energiát kinetikus energiává alakítják, és a szubsztrát felületére .}}}}}}}}}}}}}}}}}

0020-28364 Blade 6 "Adv 101 redőny

Mágneses porlasztás

A porlasztási technológia magában foglalja az egyenáramú porlasztást, a váltóáramú porlasztást, a reakció -porlasztást és a mágneses porlasztást, amely egy előkészítő módszer, amelyben a szilárd cél felületén lévő atomokat vagy molekulákat a szilárd cél felületének feltöltött részecskék általi bombázása vákuum környezetben .}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}

Az RF mágneses porlasztási folyamat az, hogy megfelelő mennyiségű argont töltsön be nagy vákuumban, rádiófrekvenciát (13 . 56 MHz) alkalmazzon a katód (hengeres cél vagy sík célpont) közötti tápegység és az anód (bevonat kamra fala) közötti áramellátás, és az elektronok összegyűjtötte az elektronokat, és az elektronok összegyűjti a forráskamrát, és az elektronok összecsillapítása az elektronok összecsillapításához. szubsztrát az E elektromos mező hatására, úgy, hogy az argon gáz ionizáljon (az AR -atomokat AR+ -ra és elektronokká ionizálják nagyfeszültség hatására), és az incidens ionok (AR+) bombázzák a célt az elektromos mező hatása alatt. A célpont elhelyezésére a célkitűzés a felszíni felületen elhelyezhető, és a felszíni a felületet a felületre helyezheti a felületre, és a felületet a felszíni a felületre helyezheti. hogy vékony fóliát képezzen.

The secondary electrons produced will be affected by the electric and magnetic fields, resulting in a drift in the direction of E (electric field) × B (magnetic field), referred to as E×B drift, whose trajectory is similar to a cycloid. In the case of a toroidal magnetic field, the electrons move in a circular motion on the target surface in the form of an approximate cycloid, and their path is not only long, but A cél felületéhez közeli plazma régióhoz is kötve, ahol nagy mennyiségű AR+ -ot ionizálnak a cél bombázására, ezáltal elérve a magas lerakódási sebességet .

Ahogy az ütközések száma növekszik, a szekunder elektronok energiája kimerül, fokozatosan elmozdul a cél felületétől, és végül az E . elektromos mező hatására a szubsztrátra helyezkedik el, mivel az elektron energiája nagyon alacsony, az energia a szubsztrátra átadott energia, amelynek eredményeként a substráta.}}}}}}}}}}}}}

A termikus párologtatási technológia által készített filmhez képest a porlasztási technológia által készített optikai film jobb minőségű . Az ok, hogy a porlasztott részecskék energiája nagyobb, mint a termikusan elpárologtatott részecskéké, amely biztosítja, hogy a film erősebb kötődési ereje legyen a szubsztráthoz, a magasabb összegű sűrűséggel és a reformálódási mutatóhoz, hogy szorosan szorosabban rendelkezzen a tömeges anyagból.